发明专利
JP5178178B2 Method for producing a baked product pattern obtained using the photosensitive resin composition and its
有权
基本信息:
- 专利标题： Method for producing a baked product pattern obtained using the photosensitive resin composition and its
- 申请号：JP2007327465 申请日：2007-12-19
- 公开(公告)号：JP5178178B2 公开(公告)日：2013-04-10
- 发明人： 雅弘 滝澤 , 裕之 東海 , 秀之 伊藤 , 幸一 高木 , 信之 鈴木
- 申请人： 太陽ホールディングス株式会社
- 专利权人： 太陽ホールディングス株式会社
- 当前专利权人： 太陽ホールディングス株式会社
- 优先权： JP2006346050 2006-12-22
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; H01J11/22 ; H01J11/24 ; H01J11/34 ; H01J11/44