基本信息:
- 专利标题： Positive resist material and pattern forming method
- 申请号：JP2011147848 申请日：2011-07-04
- 公开(公告)号：JP5105128B2 公开(公告)日：2012-12-19
- 发明人： 恒寛 西 , 剛 金生
- 申请人： 信越化学工業株式会社
- 专利权人： 信越化学工業株式会社
- 当前专利权人： 信越化学工業株式会社
- 优先权： JP2006186302 2006-07-06
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; C08F220/28 ; H01L21/027
公开/授权文献:
- JP2011215632A Positive resist material and patterning process 公开/授权日：2011-10-27