发明专利
JP4642165B2 Porous silica-based film-forming coating liquid, the coating with the substrate and the short fibrous silica
失效
基本信息:
- 专利标题： Porous silica-based film-forming coating liquid, the coating with the substrate and the short fibrous silica
- 申请号：JP22565997 申请日：1997-08-07
- 公开(公告)号：JP4642165B2 公开(公告)日：2011-03-02
- 发明人： 島 昭 中 , 上 一 昭 井 , 松 通 郎 小 , 口 良 村
- 申请人： 日揮触媒化成株式会社
- 专利权人： 日揮触媒化成株式会社
- 当前专利权人： 日揮触媒化成株式会社
- 优先权： JP22565997 1997-08-07
- 主分类号： C08L83/04
- IPC分类号： C08L83/04 ; C09D183/04 ; C08G77/02 ; C09D7/12 ; C09D183/02 ; C09D183/07
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08L | 高分子化合物的组合物 |
| ------C08L83/00 | 由只在主链中形成含硅的，有或没有硫、氮、氧或碳键的反应得到的高分子化合物的组合物；此种聚合物的衍生物的组合物 |
| --------C08L83/04 | .聚硅氧烷 |