基本信息:
- 专利标题： Resist underlayer film composition
- 专利标题（中）：空值
- 申请号：JP2005106764 申请日：2005-04-01
- 公开(公告)号：JP4639915B2 公开(公告)日：2011-02-23
- 发明人： 光 杉田 , 正人 田中 , 純一 高橋
- 申请人： Jsr株式会社
- 专利权人： Jsr株式会社
- 当前专利权人： Ｊｓｒ株式会社
- 优先权： JP2005106764 2005-04-01
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; H01L21/027
公开/授权文献:
- JP2006285046A Resist underlayer film composition 公开/授权日：2006-10-19