发明专利
JP4566585B2 Azo compounds and methods for producing the same, as well as material for the photosensitive layer
有权
基本信息:
- 专利标题： Azo compounds and methods for producing the same, as well as material for the photosensitive layer
- 申请号：JP2004069181 申请日：2004-03-11
- 公开(公告)号：JP4566585B2 公开(公告)日：2010-10-20
- 发明人： 正幸 所司 , 夕子 駒井
- 申请人： 株式会社リコー
- 专利权人： 株式会社リコー
- 当前专利权人： 株式会社リコー
- 优先权： JP2004069181 2004-03-11; JP2003076621 2003-03-19
- 主分类号： C09B35/34
- IPC分类号： C09B35/34 ; G03G5/06 ; C09B35/023 ; C09B35/037
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C09 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 |
| ----C09B | 有机染料或用于制造染料的有关化合物；媒染剂；色淀 |
| ------C09B35/00 | 由重氮化及偶合制备的A←D→B类型的双偶氮或多偶氮染料 |
| --------C09B35/02 | .双偶氮染料 |
| ----------C09B35/039 | ..以双偶氮组分为特征的 |
| ------------C09B35/34 | ...双偶氮组分是杂环 |