基本信息:
- 专利标题： Vacuum processing apparatus
- 申请号：JP2000032465 申请日：2000-02-09
- 公开(公告)号：JP4503762B2 公开(公告)日：2010-07-14
- 发明人： 隆史 長谷川
- 申请人： 富士通セミコンダクター株式会社
- 专利权人： 富士通セミコンダクター株式会社
- 当前专利权人： 富士通セミコンダクター株式会社
- 优先权： JP2000032465 2000-02-09
- 主分类号： B01J3/02
- IPC分类号： B01J3/02 ; F16K51/02
公开/授权文献:
- JP2001219051A VACUUM TREATMENT DEVICE 公开/授权日：2001-08-14
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B01 | 一般的物理或化学的方法或装置 |
| ----B01J | 化学或物理方法，例如，催化作用、胶体化学；其有关设备 |
| ------B01J3/00 | 利用低于或高于大气压力使物质发生化学或物理变化的方法；其有关设备 |
| --------B01J3/02 | .它们的进料或出口装置 |