基本信息:
- 专利标题： Methods and systems to improve the contrast of the boundary
- 专利标题（中）：空值
- 申请号：JP2005500105 申请日：2003-09-29
- 公开(公告)号：JP4376228B2 公开(公告)日：2009-12-02
- 发明人： サンドストレム、トルビエルン
- 申请人： マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット
- 专利权人： マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット
- 当前专利权人： マイクロニック レーザー システムズ アクチボラゲット
- 优先权： US41550902 2002-10-01; US44441703 2003-02-03; US45536403 2003-03-17; US46201003 2003-06-12
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G02B26/08 ; G03F7/20
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |