发明专利
JP4352135B2 Target material production method, the gamma-ray source device and the target material manufacturing apparatus
有权
基本信息:
- 专利标题： Target material production method, the gamma-ray source device and the target material manufacturing apparatus
- 申请号：JP2007086141 申请日：2007-03-29
- 公开(公告)号：JP4352135B2 公开(公告)日：2009-10-28
- 发明人： 勲 菅井
- 申请人： 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構
- 专利权人： 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構
- 当前专利权人： 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構
- 优先权： JP2007086141 2007-03-29
- 主分类号： G21K5/08
- IPC分类号： G21K5/08
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G21 | 核物理；核工程 |
| ----G21K | 未列入其他类目的粒子或电磁辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜 |
| ------G21K5/00 | 照射装置 |
| --------G21K5/08 | .靶或被照射物体的支架 |