基本信息:
- 专利标题： Method of suppressing adhesion radionuclide
- 申请号：JP2007115645 申请日：2007-04-25
- 公开(公告)号：JP4197534B2 公开(公告)日：2008-12-17
- 发明人： 元昭 坂下 , 諭 森澤 , 勝男 横田 , 秀幸 細川 , 誠 長瀬
- 申请人： 株式会社日立製作所
- 专利权人： 株式会社日立製作所
- 当前专利权人： 株式会社日立製作所
- 优先权： JP2006014412 2006-01-23; JP2007115645 2007-04-25
- 主分类号： G21D1/00
- IPC分类号： G21D1/00 ; G21D3/08
公开/授权文献:
- JP2007218926A Deposition suppression method of radionuclide 公开/授权日：2007-08-30