发明专利
JP4166456B2 Vacuum ultraviolet synthetic quartz glass, its manufacturing method and a vacuum ultraviolet mask substrate using the same
有权
基本信息:
- 专利标题： Vacuum ultraviolet synthetic quartz glass, its manufacturing method and a vacuum ultraviolet mask substrate using the same
- 申请号：JP2001308420 申请日：2001-10-04
- 公开(公告)号：JP4166456B2 公开(公告)日：2008-10-15
- 发明人： 秀春 堀越
- 申请人： 東ソ−・エスジ−エム株式会社 , 東ソー株式会社
- 专利权人： 東ソ−・エスジ−エム株式会社,東ソー株式会社
- 当前专利权人： 東ソ−・エスジ−エム株式会社,東ソー株式会社
- 优先权： JP2001308420 2001-10-04
- 主分类号： C03C4/08
- IPC分类号： C03C4/08 ; C03B8/04 ; C03B20/00 ; C03C3/06 ; G02B1/00 ; G03F1/60
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide synthetic quartz glass for vacuum UV light which has excellent durability to irradiation with vacuum UV light, a method for manufacturing the same, and a mask substrate for the vacuum UV light using the same. SOLUTION: The synthetic quartz glass for the vacuum UV light characterized in that the internal transmittance to the vacuum UV light of a wavelength 157 nm is >=50% per 1 cm and the ratio of lowering of the internal transmittance is shots of the vacuum UV light of the wavelength 157 nm at an energy density of 0.1 mJ/cm , and the method for manufacturing the same and the mask substrate for the vacuum UV light using the same are used.
公开/授权文献:
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C03 | 玻璃；矿棉或渣棉 |
| ----C03C | 玻璃、釉或搪瓷釉的化学成分；玻璃的表面处理；由玻璃、矿物或矿渣制成的纤维或细丝的表面处理；玻璃与玻璃或与其他材料的接合 |
| ------C03C4/00 | 特殊性能玻璃的组成 |
| --------C03C4/08 | .选择性吸收指定波长辐射的玻璃 |