基本信息:
- 专利标题： プラズマチャンバ内温度のリアルタイム制御
- 申请号：JP2021501038 申请日：2019-07-17
- 公开(公告)号：JP2021531650A 公开(公告)日：2021-11-18
- 发明人： ジン・チャンギョウ
- 申请人： ラム リサーチ コーポレーション , LAM RESEARCH CORPORATION
- 申请人地址： アメリカ合衆国,カリフォルニア 94538,フレモント,クッシング パークウェイ 4650
- 专利权人： ラム リサーチ コーポレーション,LAM RESEARCH CORPORATION
- 当前专利权人： ラム リサーチ コーポレーション,LAM RESEARCH CORPORATION
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国,カリフォルニア 94538,フレモント,クッシング パークウェイ 4650
- 代理人： 特許業務法人明成国際特許事務所
- 优先权： US16/041,345 2018-07-20
- 国际申请： US2019042229 JP 2019-07-17
- 国际公布： WO2020018683 JP 2020-01-23
- 主分类号： H01L21/205
- IPC分类号： H01L21/205 ; C23C16/46 ; C23C16/50 ; H01L21/3065
摘要：
プラズマチャンバ内部の温度をリアルタイム制御するためのシステムおよび方法について記述する。方法の1つは、電圧源に結合したレールの電圧をリアルタイムで検知することを含む。電圧源は、プラズマチャンバの複数のヒータ要素に電圧を供給する。検知した電圧を使用して、ヒータ要素のうちの対応する1つまたは複数の1つまたは複数のデューティサイクルを調節する。調節された1つまたは複数のデューティサイクルは、プラズマチャンバ内部で温度値を達成し、経時的に維持するのを容易にする。 【選択図】図4A
摘要（英）：
Systems and methods for real-time control of temperature within a plasma chamber are described. One of the methods includes sensing a voltage in real time of a rail that is coupled to a voltage source. The voltage source supplies a voltage to multiple heater elements of the plasma chamber. The voltage that is sensed is used to adjust one or more duty cycles of corresponding one or more of the heater elements. The adjusted one or more duty cycles facilitate achieving and maintaining a temperature value within the plasma chamber over time.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |
| ------------H01L21/18 | ...器件有由周期表第Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料 |
| --------------H01L21/20 | ....半导体材料在基片上的沉积，例如外延生长 |
| ----------------H01L21/205 | .....应用气态化合物的还原或分解产生固态凝结物的，即化学沉积 |