基本信息:
- 专利标题： 基板コーティング用真空蒸着設備及び方法
- 申请号：JP2020569013 申请日：2019-04-23
- 公开(公告)号：JP2021527168A 公开(公告)日：2021-10-11
- 发明人： シルベルベール,エリック , ラベロ・ヌニェ・カンポス,ティアゴ , ギラニ,ネガール
- 申请人： アルセロールミタル
- 申请人地址： ルクセンブルク国、1160・ルクセンブルク、ブールバール・ダブランシュ、24−26
- 专利权人： アルセロールミタル
- 当前专利权人： アルセロールミタル
- 当前专利权人地址： ルクセンブルク国、1160・ルクセンブルク、ブールバール・ダブランシュ、24−26
- 代理人： 特許業務法人川口國際特許事務所
- 优先权： IBPCT/IB2018/054302 2018-06-13
- 国际申请： IB2019053341 JP 2019-04-23
- 国际公布： WO2019239229 JP 2019-12-19
- 主分类号： C23C14/16
- IPC分类号： C23C14/16 ; C23C14/24
摘要：
本発明は、走行する基板上に、真空チャンバを備える真空蒸着設備内で、少なくとも1つの金属から形成されたコーティングを連続的に蒸着させる方法と、基板の両面に少なくとも1つの金属でコーティングされる、コーティングされた基板と、真空蒸着設備と、に関する。
摘要（英）：
A method for continuously depositing, on a running substrate, coatings formed from at least one metal inside a Vacuum deposition facility including a vacuum chamber, a coated substrate coated with at least one metal on both sides of the substrate and a vacuum deposition facility.