基本信息:
- 专利标题： 様々なグレーチングを有する回折光学素子を形成するためのシステムおよび方法
- 专利标题（英）：SYSTEM AND METHOD FOR FORMING DIFFRACTED OPTICAL ELEMENT HAVING VARIOUS GRATINGS
- 申请号：JP2021097002 申请日：2021-06-10
- 公开(公告)号：JP2021170112A 公开(公告)日：2021-10-28
- 发明人： エヴァンズ, モーガン , マイヤー ティマーマン タイセン, ラトガー , オルソン, ジョセフ , クルンチ, ピーター エフ. , マシー, ロバート
- 申请人： バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
- 申请人地址： アメリカ合衆国マサチューセッツ州01930,グロスター,ドリー・ロード35
- 专利权人： バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
- 当前专利权人： バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国マサチューセッツ州01930,グロスター,ドリー・ロード35
- 代理人： 園田・小林特許業務法人
- 优先权： US15/865,943 2018-01-09
- 主分类号： G02B27/02
- IPC分类号： G02B27/02 ; G02B5/18
To provide a system and a method for forming an optical component.SOLUTION: A method may include providing a plurality of proximity masks between a plasma source and a workpiece, the workpiece including a plurality of substrates secured thereto. Each of the plurality of substrates may include first and second target areas. The method may further include delivering, from the plasma source, an angled ion beam towards the workpiece, where the angled ion beam is then received at one of the plurality of masks. A first proximity mask may include a first set of openings, where the angled ion beam can pass through the first set of openings to reach to the first target area of each of the plurality of substrates. A second proximity mask may include a second set of openings, where the angled ion beam can pass through the second set of openings to reach to the second target area of each of the plurality of substrates.SELECTED DRAWING: Figure 1
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B27/00 | 其他光学系统；其他光学仪器 |
| --------G02B27/02 | .观看或阅读仪器 |