基本信息:
- 专利标题： 無電解メッキ抑制組成物及びメッキ部品の製造方法
- 专利标题（英）：ELECTROLESS PLATING INHIBITING COMPOSITION AND METHOD FOR MANUFACTURING PLATED COMPONENT
- 申请号：JP2020214991 申请日：2020-12-24
- 公开(公告)号：JP2021046614A 公开(公告)日：2021-03-25
- 发明人： 土畑 美由喜 , 遊佐 敦 , 鬼頭 朗子 , 臼杵 直樹
- 申请人： マクセルホールディングス株式会社
- 申请人地址： 京都府乙訓郡大山崎町大山崎小泉1番地
- 专利权人： マクセルホールディングス株式会社
- 当前专利权人： マクセルホールディングス株式会社
- 当前专利权人地址： 京都府乙訓郡大山崎町大山崎小泉1番地
- 代理人： 川北 喜十郎; 藤田 正広; 川津 幸恵
- 优先权： JP2019039701 2019-03-05
- 主分类号： C23C18/18
- IPC分类号： C23C18/18
摘要：
【課題】無電解メッキ膜の形成を予定していない部分での無電解メッキ膜の生成を抑制でき、分散安定性の高い無電解メッキ抑制組成物を提供する。 【解決手段】 無電解メッキ抑制組成物であって、アミド基及びアミノ基の少なくとも一方を有する化合物である触媒活性妨害剤と、グリコールエーテルを含む溶剤とを含む。前記触媒活性妨害剤が、前記アミド基及び前記アミノ基の少なくとも一方を含む側鎖を有する分岐ポリマーである。 【選択図】 なし
摘要（英）：
To provide an electroless plating inhibiting composition that can suppress generation of an electroless plating film in a part where an electroless plating film is not planned to be formed and has excellent dispersion stability.SOLUTION: An electroless plating inhibiting composition includes: a catalytic activity inhibitor that is a compound including at least one of the amide group and amino group; and a solvent including glycol ether. The catalytic activity inhibitor is a branched polymer including a side chain including at least one of the amide group and the amino group.SELECTED DRAWING: None