基本信息:
- 专利标题: 感放射線性組成物
- 专利标题(英):RADIATION SENSITIVE COMPOSITION
- 申请号:JP2020150841 申请日:2020-09-08
- 公开(公告)号:JP2021008469A 公开(公告)日:2021-01-28
- 发明人: 中島 誠 , 高瀬 顕司 , 武田 諭 , 柴山 亘
- 申请人: 日産化学株式会社
- 申请人地址: 東京都中央区日本橋二丁目5番1号
- 专利权人: 日産化学株式会社
- 当前专利权人: 日産化学株式会社
- 当前专利权人地址: 東京都中央区日本橋二丁目5番1号
- 代理人: 特許業務法人はなぶさ特許商標事務所
- 优先权: JP2015118625 2015-06-11
- 主分类号: G03F7/038
- IPC分类号: G03F7/038 ; C07F7/18
摘要:
【課題】フェノール性ヒドロキシル基生成化合物の提供。 【解決手段】下記式(5−1)、式(5−2)、又は式(5−3)で示される化合物。 (式中、R 17 、R 19 、及びR 21 はエチル基を示し、R 22 、及びR 23 はメチル基を示し、R 16 、R 18 、及びR 20 はメトキシ基を示す。) 【選択図】なし
摘要(英):
To provide a phenolic hydroxyl group generating compound.SOLUTION: A compound is represented by the following formula (5-1), formula (5-2), or formula (5-3), in which R17, R19 and R21 denote an ethyl group, R22 and R23 denote a methyl group, and R16, R18 and R20 denote a methoxy group.SELECTED DRAWING: None