基本信息:
- 专利标题： 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
- 申请号：JP2020074911 申请日：2020-04-20
- 公开(公告)号：JP2020180121A 公开(公告)日：2020-11-05
- 发明人： 安立 由香子 , 市川 幸司
- 申请人： 住友化学株式会社
- 申请人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 代理人： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
- 优先权： JP2019083662 2019-04-25
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/20 ; C09K3/00 ; C07C381/12 ; C08F212/08 ; C08F220/26 ; C07D321/06 ; C07D307/33 ; C07C309/17
摘要：
【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造することができる塩及びレジスト組成物の提供。 【解決手段】式(I)で表される塩、酸発生剤及びこれを含有するレジスト組成物。 [R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R 5 及びR 6 は夫々ハロゲン原子等;R 7 及びR 8 は夫々ハロゲン原子、OH等;R 9 はH又はアルキル基;m7及びm8は0〜2の整数;m9は0〜5の整数;Q 1 及びQ 2 は夫々F又はペルフルオロアルキル基;L 1 は置換/非置換の飽和炭化水素基;Y 1 は置換/非置換のメチル基又は脂環式炭化水素基を表す。] 【選択図】なし