基本信息:
- 专利标题： バルブ装置、このバルブ装置を用いた流量制御方法、半導体製造方法、および半導体製造装置
- 申请号：JP2019015577 申请日：2019-01-31
- 公开(公告)号：JP2020122539A 公开(公告)日：2020-08-13
- 发明人： 吉田 俊英 , 丹野 竜太郎 , 土口 大飛 , 鈴木 裕也 , 近藤 研太 , 中田 知宏 , 篠原 努 , 滝本 昌彦
- 申请人： 株式会社フジキン
- 申请人地址： 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号
- 专利权人： 株式会社フジキン
- 当前专利权人： 株式会社フジキン
- 当前专利权人地址： 大阪府大阪市西区立売堀2丁目3番2号
- 代理人： 藤本 健司
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02 ; F16K31/02
摘要：
【課題】長寿命化されたバルブ装置を提供する。 【解決手段】与えられた電力を伸縮する力に変換する受動要素を利用し、かつ、前記開位置に位置付けられた前記操作部材の位置を調整するための調整用アクチュエータ100と、検出したバルブ開度と設定開度との偏差に応じた電圧を前記調整用アクチュエータに印加し、前記バルブ開度が所定開度を下回った場合には、前記調整用アクチュエータに印加する電圧をゼロボルトにする制御部300と、を有する。 【選択図】図9
公开/授权文献:
- JPWO2019198742A1 嫌気性代謝閾値推定方法および装置 公开/授权日：2020-12-03
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |