基本信息:
- 专利标题： トンネル構造、トンネル構造の製造方法及び止水方法
- 申请号：JP2020019400 申请日：2020-02-07
- 公开(公告)号：JP2020097892A 公开(公告)日：2020-06-25
- 发明人： 秋場 俊一 , 浅野 均 , 市川 政美 , 請川 誠 , 和田 洋一 , 田中 孝 , 小林 修 , 中山 卓人
- 申请人： 戸田建設株式会社
- 申请人地址： 東京都中央区京橋1丁目7番1号
- 专利权人： 戸田建設株式会社
- 当前专利权人： 戸田建設株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都中央区京橋1丁目7番1号
- 代理人： あいわ特許業務法人
- 主分类号： E21D11/00
- IPC分类号： E21D11/00 ; E21D9/06
摘要：
【課題】シールドトンネルの外周により確実に止水ゾーンを施工することができる同時注入方式の裏込注入装置を有するシールド掘進機およびトンネル止水方法を提供する。 【解決手段】裏込注入管21と、前記裏込注入管21を覆うハウジング23とを有する裏込注入装置20を備えたシールド掘進機10であって、前記裏込注入装置20は、スキンプレート1の内周面に固定して設けられており、前記ハウジング23の内周面には、テールシールが設けられていることを特徴とするシールド掘進機である。 【選択図】図1
公开/授权文献:
- JP6884897B2 トンネル構造の製造方法及び止水方法 公开/授权日：2021-06-09
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| E | 固定建筑物 |
| --E21 | 土层或岩石的钻进；采矿 |
| ----E21D | 竖井；隧道；平硐；地下室 |
| ------E21D11/00 | 隧道、平硐或其他地下洞室，例如，地下大型硐室的衬砌；其衬砌物；现场制衬砌物，例如，通过组装 |