基本信息:
- 专利标题: エッチング液組成物、絶縁膜のエッチング方法及び半導体素子の製造方法
- 申请号:JP2019183147 申请日:2019-10-03
- 公开(公告)号:JP2020068377A 公开(公告)日:2020-04-30
- 发明人: キム チョル ウ , シム ユ ナ , イ クヮン クク , クヮク ジェ フン , キム ユン ボム , イ ジョン ホ , ジョ ジン キュン
- 申请人: エスケー イノベーション カンパニー リミテッド , SK INNOVATION CO.,LTD. , エスケー マテリアルズ カンパニー リミテッド
- 申请人地址: 大韓民国 03188 ソウル ジョンノク ジョン−ロ 26
- 专利权人: エスケー イノベーション カンパニー リミテッド,SK INNOVATION CO.,LTD.,エスケー マテリアルズ カンパニー リミテッド
- 当前专利权人: エスケー イノベーション カンパニー リミテッド,SK INNOVATION CO.,LTD.,エスケー マテリアルズ カンパニー リミテッド
- 当前专利权人地址: 大韓民国 03188 ソウル ジョンノク ジョン−ロ 26
- 代理人: 正林 真之; 林 一好
- 优先权: KR10-2018-0128939 2018-10-26
- 主分类号: H01L27/11517
- IPC分类号: H01L27/11517 ; H01L21/336 ; H01L29/788 ; H01L29/792 ; H01L21/76 ; H01L21/306
摘要:
【課題】酸化膜のエッチング率を最小化しながら窒化膜を選択的に除去することができる高選択比のエッチング液組成物を提供する。 【解決手段】エッチング液組成物は、リン酸、無水リン酸、下記化学式1で表されるシラン化合物及び水を含む。 【選択図】なし