基本信息:
- 专利标题： ポリカルボシラン含有組成物
- 申请号：JP2018134574 申请日：2018-07-17
- 公开(公告)号：JP2020012951A 公开(公告)日：2020-01-23
- 发明人： 石橋 謙 , 志垣 修平 , 中島 誠
- 申请人： 日産化学株式会社
- 申请人地址： 東京都中央区日本橋二丁目5番1号
- 专利权人： 日産化学株式会社
- 当前专利权人： 日産化学株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都中央区日本橋二丁目5番1号
- 主分类号： G03F7/40
- IPC分类号： G03F7/40
摘要：
【課題】被加工基板上に形成されたレジストパターンに高低差や疎密のある段差基板に対し、レジストパターン間に良好に埋め込むことができるポリカルボシラン含有組成物を用い、特定の手順により段差基板を平坦に被覆するための方法を提供する。 【解決手段】ポリカルボシランと溶媒とを含む、有機パターン上に塗布されるパターン反転膜形成用組成物である。好ましくはポリカルボシランが、式(1)で表される単位構造を含む。 (R 1 及びR 2 は各々水素原子、ヒドロキシ基、C1〜C10アルキル基、他の基を表す。) 【選択図】図1