基本信息:
- 专利标题： 化学機械平坦化組成物用の複合研磨粒子及びその使用方法
- 申请号：JP2019131417 申请日：2019-07-16
- 公开(公告)号：JP2019199613A 公开(公告)日：2019-11-21
- 发明人： ジョウ ホーンジュン , ジョ−アン テリーサ シュワルツ , マルコルム グリーフ , シャオボー シ , クリシュナ ピー.ムレッラ , スティーブン チャールズ ウィンチェスター , ジョン エドワード クインシー ヒューズ , マーク レオナルド オニール , アンドリュー ジェイ.ドッド , ドンヤネシュ チャンドラカント タンボリ , レイナルド マリオ マチャド
- 申请人： バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー
- 申请人地址： アメリカ合衆国,アリゾナ 85284,テンピ,サウス リバー パークウェイ 8555
- 专利权人： バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー
- 当前专利权人： バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国,アリゾナ 85284,テンピ,サウス リバー パークウェイ 8555
- 代理人： 青木 篤; 三橋 真二; 木村 健治; 胡田 尚則; 日浅 里美
- 优先权： US62/102,319 2015-01-12 US62/221,379 2015-09-21
- 主分类号： C09G1/02
- IPC分类号： C09G1/02 ; B24B37/00 ; H01L21/304 ; C09K3/14
摘要：
【課題】より高い除去速度、低いディッシング及び低欠陥を提供することができるCMP組成物、方法及びシステムを提供する。 【解決手段】セリアコートシリカ粒子等の複合粒子を含む化学機械平坦化(CMP)研磨組成物は、低いディッシング、低欠陥、及び酸化物膜を研磨する高い除去速度を提供する。化学機械平坦化(CMP)研磨組成物は、軟らかい研磨パッドを用いて卓越した性能を示した。 【選択図】図1
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C09 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用 |
| ----C09G | 虫胶清漆除外的抛光组合物；滑雪屐蜡 |
| ------C09G1/00 | 抛光组合物 |
| --------C09G1/02 | .含有磨料或研磨剂 |