基本信息:
- 专利标题: 透過型電子顕微鏡グリッド及びその製造方法
- 申请号:JP2019010279 申请日:2019-01-24
- 公开(公告)号:JP2019129154A 公开(公告)日:2019-08-01
- 发明人: 叢 琳 , 趙 偉 , 張 金 , 蔡 裕謙 , 姜 開利 , ▲ハン▼ 守善
- 申请人: ツィンファ ユニバーシティ , 鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司 , HON HAI PRECISION INDUSTRY CO.,LTD.
- 申请人地址: 中華人民共和国 ベイジン 100084, ハイダン ディストリクト
- 专利权人: ツィンファ ユニバーシティ,鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司,HON HAI PRECISION INDUSTRY CO.,LTD.
- 当前专利权人: ツィンファ ユニバーシティ,鴻海精密工業股▲ふん▼有限公司,HON HAI PRECISION INDUSTRY CO.,LTD.
- 当前专利权人地址: 中華人民共和国 ベイジン 100084, ハイダン ディストリクト
- 代理人: TRY国際特許業務法人
- 优先权: CN201810080253.2 2018-01-27
- 主分类号: B82Y35/00
- IPC分类号: B82Y35/00 ; H01J37/20
摘要:
【課題】ナノパーティクルに対する解像度の高い透過型電子顕微鏡グリッドを提供する。 【解決手段】貫通する窓105を有するサブストレート104の表面に設置された、複数のスルーホール103を有する多孔質窒化ケイ素基板101、及び、多孔質窒化ケイ素基板101の表面に設置され、多孔質窒化ケイ素基板101の複数のスルーホール103を覆って懸架されるグラフェン層102を有し、グラフェン層102は連続な一体式構造であることを特徴とする。 【選択図】図1
公开/授权文献:
- JPWO2019188294A1 燃料電池装置、制御装置および制御プログラム 公开/授权日:2021-03-18
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
B | 作业;运输 |
--B82 | 超微技术 |
----B82Y | 纳米结构的特定用途或应用;纳米结构的测量或分析;纳米结构的制造或处理 |
------B82Y35/00 | 纳米结构的测量或分析方法或设备 |