式中、互いに独立して、
X1、X3は、カルバモイル、C1〜C4アルキルカルバモイル、ジ(C1〜C4)アルキルカルバモイル、スルファモイル、フェニルスルファモイル、C1〜C4アルキルスルファモイルまたはジ(C1〜C4)アルキルスルファモイルを意味し;
X2、X4は、水素、C1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシ、ハロゲンまたはニトロを意味し;
Y1、Y2は、水素、ハロゲンまたはC1〜C4アルキル、C1〜C4アルコキシもしくはC1〜C4アルコキシカルボニルを意味し;そして
Z1、Z2は、水素、フェニル、ナフチル、ベンズイミダゾロニル、置換されたフェニルもしくは置換されたナフチルを意味し、ここで置換基数は1、2、3または4であり、そして置換基は、ハロゲン、ニトロ、シアノ、C1〜C4アルコキシカルボニル、カルバモイル、C1〜C4アルキルカルバモイル、ジ(C1〜C4)アルキルカルバモイル、フェニルカルバモイル、スルファモイル、フェニルスルファモイル、C1〜C4アルキルスルファモイル、ジ(C1〜C4)アルキルスルファモイル、C1〜C4アシルアミノ、C1〜C4アルキル及びC1〜C4アルコキシの群から選択され、但し式(Ia)及び(Ib)の顔料は異なっている。">
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