基本信息:
- 专利标题： 酸化ケイ素基材上に酸化イットリウム膜が形成された複合材料の製造方法
- 专利标题（英）：JP2018140913A - Manufacturing method of composite material in which yttrium oxide film is formed on silicon oxide base material
- 申请号：JP2017037445 申请日：2017-02-28
- 公开(公告)号：JP2018140913A 公开(公告)日：2018-09-13
- 发明人： 齋藤 秀俊 , 小松 啓志 , 淡 ▲エン▼▲キン▼ , 南部 信義 , 中村 淳 , 南部 忠彦
- 申请人： 国立大学法人長岡技術科学大学 , 中部キレスト株式会社 , キレスト株式会社
- 申请人地址： 新潟県長岡市上富岡町1603−1
- 专利权人： 国立大学法人長岡技術科学大学,中部キレスト株式会社,キレスト株式会社
- 当前专利权人： 国立大学法人長岡技術科学大学,中部キレスト株式会社,キレスト株式会社
- 当前专利权人地址： 新潟県長岡市上富岡町1603−1
- 代理人： 植木 久一; 植木 久彦; 菅河 忠志; 伊藤 浩彰
- 主分类号： C23C4/11
- IPC分类号： C23C4/11 ; C23C18/12 ; B05D1/10 ; B05D7/24 ; C03C17/23
摘要：
【課題】酸化ケイ素基材上に酸化イットリウム膜が形成された複合材料の製造方法であって、緻密性および透明性が高く、酸化ケイ素基材との密着性に優れた酸化イットリウム膜を容易に形成することができる方法を提供する。 【解決手段】酸化ケイ素基材上に酸化イットリウム膜が形成された複合材料の製造方法であって、非気化性のイットリウムキレート錯体粒子を熱流体中に導入し酸化ケイ素基材に当てることにより、前記基材上に酸化イットリウム膜を形成する工程を有する。 【選択図】図3