基本信息:
- 专利标题： 感放射線性組成物ならびにパターニング及びメタライゼーションプロセス
- 专利标题（英）：JP2018109767A - Radiation-sensitive compositions and patterning and metallization processes
- 申请号：JP2017251924 申请日：2017-12-27
- 公开(公告)号：JP2018109767A 公开(公告)日：2018-07-12
- 发明人： 羽賀 満 , 串田 修学 , 貝沼 邦雄 , ジェームス・エフ・キャメロン
- 申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー , Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 申请人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 代理人： 特許業務法人センダ国際特許事務所
- 优先权： US62/441,336 2016-12-31
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/40 ; G03F7/11 ; G03F7/20 ; C08F212/08 ; G03F7/004
摘要：
【課題】金属層の上に微小なマスクパターンを設けることができる新しい方法及びレジスト組成物の提供。 【解決手段】パターニングプロセスであって、(i)基板上に、(a)樹脂と、(b)光酸発生剤と、(c)第1のクエンチャと、(d)第2のクエンチャと、を含む感放射線性膜を形成することと、(ii)感放射線性膜を活性化放射線にパターン状に露光することと、(iii)感放射線性膜をアルカリ性現像液と接触させてレジストパターンを形成することと、を含み、樹脂は、次の繰り返し単位を含み、 式中、Zは酸不安定部分をもたらす非水素置換基であり、nは40〜90モル%であり、mは10〜60モル%であり、樹脂中の2つの繰り返し単位の合わせた全含有量は、樹脂の全繰り返し単位に基づいて80モル%以上であり、第1のクエンチャは、ベンゾトリアゾールまたはその誘導体から選択される、プロセス。 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6564843B2 感放射線性組成物ならびにパターニング及びメタライゼーションプロセス 公开/授权日：2019-08-21