基本信息:
- 专利标题： ポリシラン化合物、組成物、硬化物及び基板の製造方法、並びにアニオン重合選択的促進剤
- 专利标题（英）：JP2018109112A - Method for producing polysilane compound, composition, cured product and substrate, and anionic polymerization selective accelerator
- 申请号：JP2016257102 申请日：2016-12-28
- 公开(公告)号：JP2018109112A 公开(公告)日：2018-07-12
- 发明人： 染谷 和也 , 野田 国宏 , 千坂 博樹 , 塩田 大
- 申请人： 東京応化工業株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 代理人： 正林 真之
- 主分类号： G02B1/04
- IPC分类号： G02B1/04 ; H01L51/50 ; H05B33/04 ; H01L23/14 ; H01L21/312 ; C08G77/60
摘要：
【課題】ポリシラン化合物を含む膜におけるアウトガス発生及びマイクロクラック発生を抑制することができるポリシラン化合物の製造方法、該ポリシラン化合物を含む組成物、硬化物及び基板並びにポリシラン化合物の製造におけるアニオン重合選択的促進剤を提供すること。 【解決手段】ニトロキシ化合物の存在下においてハロシラン化合物を反応させることを含むポリシラン化合物の製造方法。下記一般式(A)で表される構造を含むニトロキシ化合物を含む、ポリシラン化合物の製造におけるアニオン重合選択的促進剤。 【化1】 (式(A)中、R a1 、R a2 、R a3 、及びR a4 は、それぞれ独立に、水素原子、又は有機基である。R a1 とR a2 とは、互いに結合して環を形成してもよい。また、R a3 とR a4 とは、互いに結合して環を形成してもよい。) 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6916619B2 ポリシラン化合物、組成物、硬化物及び基板の製造方法、並びにアニオン重合選択的促進剤 公开/授权日：2021-08-11
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G02 | 光学 |
| ----G02B | 光学元件、系统或仪器 |
| ------G02B1/00 | 按制造材料区分的光学元件；用于光学元件的光学涂层 |
| --------G02B1/04 | .由有机材料（例如塑料）制成的 |