層基板部の第1配線層26a、第2配線層26b、第3配線層26c及び第4配線層26dに対して、複数のパワー半導体モジュールの第1半導体デバイスの制御端子に対して制御信号を与える経路となる第1制御配線層Lc1と、複数のパワー半導体モジュールの第1半導体デバイスの低電位側端子に対してグランド電位を与える経路となる第1グランド配線層Lg1と、複数のパワー半導体モジュールの第2半導体デバイスの制御端子に対して制御信号を与える経路となる第2制御配線層Lc2と、複数のパワー半導体モジュールの第2半導体デバイスに対してグランド電位を与える経路となる第2グランド配線層Lg2とを個別に割り当てている。
【選択図】図6">
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