基本信息:
- 专利标题： 化合物、樹脂、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
- 专利标题（英）：JP2018024847A - Compound, resin, resist composition, and method for producing resist pattern
- 申请号：JP2017140637 申请日：2017-07-20
- 公开(公告)号：JP2018024847A 公开(公告)日：2018-02-15
- 发明人： 坂本 宏 , 市川 幸司
- 申请人： 住友化学株式会社
- 申请人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 代理人： 中山 亨; 坂元 徹
- 优先权： JP2016149451 2016-07-29
- 主分类号： C08G75/045
- IPC分类号： C08G75/045 ; C08F22/10 ; G03F7/20 ; C08F2/38
摘要：
【課題】良好なCD均一性(CDU)でレジストパターンを製造できるレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I0)で表される構造単位を含む樹脂。 [式(I0)中、 A 1 、A 2 及びA 3 は、それぞれ独立して、炭素数2〜18の2価の炭化水素基を表す。 R 1 、R 2 、R 3 及びR 4 は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜6の飽和炭化水素基を表す。 X 1 及びX 2 は、それぞれ独立して、*−O−CO−、*−O−CO−O−又は−O−を表し、*は、A 2 又はA 3 との結合位を表す。] 【選択図】なし
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08G | 用碳—碳不饱和键以外的反应得到的高分子化合物 |
| ------C08G75/00 | 在高分子主链中，由形成含硫的键合，有或没有氮、氧，或碳键合反应得到的高分子化合物 |
| --------C08G75/02 | .聚硫醚 |
| ----------C08G75/0204 | ..聚亚芳基硫醚 |
| ------------C08G75/045 | ...由硫醇基化合物和不饱和化合物 |