基本信息:
- 专利标题： レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
- 专利标题（英）：JP2018004775A - Resist composition and method for forming resist pattern
- 申请号：JP2016128091 申请日：2016-06-28
- 公开(公告)号：JP2018004775A 公开(公告)日：2018-01-11
- 发明人： 矢萩 真人 , 鈴木 一生 , 福村 友貴 , 高山 寿一 , 神園 喬 , 藤井 達也
- 申请人： 東京応化工業株式会社
- 申请人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人： 東京応化工業株式会社
- 当前专利权人地址： 神奈川県川崎市中原区中丸子150番地
- 代理人： 棚井 澄雄; 志賀 正武; 松本 将尚; 宮本 龍; 飯田 雅人
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/20 ; G03F7/039
摘要：
【課題】高感度化及びリソグラフィー特性の向上が図れ、良好な形状のレジストパターンを形成できるレジスト組成物並びにレジストパターン形成方法を提供する。 【解決手段】一般式(a0−1)で表される構成単位を有する樹脂成分と、一般式(b1)で表される化合物と、を含有することを特徴とするレジスト組成物。 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6846127B2 レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 公开/授权日：2021-03-24