基本信息:
- 专利标题： 耐プラズマ性セラミックスコーティングのスラリープラズマ溶射
- 专利标题（英）：Slurry plasma spraying plasma resistance ceramic coating
- 申请号：JP2017511544 申请日：2015-05-06
- 公开(公告)号：JP2017515001A 公开(公告)日：2017-06-08
- 发明人： ジェニファー ワイ サン , ジェニファー ワイ サン , ビラジャ ピー カヌンゴ , ビラジャ ピー カヌンゴ , イーカイ チェン , イーカイ チェン , バヒド フィロウズドア , バヒド フィロウズドア
- 申请人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated , アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
- 申请人地址： アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95054 サンタ クララ バウアーズ アベニュー 3050
- 专利权人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated,アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated
- 当前专利权人： アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ,アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国 カリフォルニア州 95054 サンタ クララ バウアーズ アベニュー 3050
- 代理人： 安齋 嘉章
- 优先权： US61/989,903 2014-05-07 US14/704,742 2015-05-05
- 国际申请： US2015029517 JP 2015-05-06
- 国际公布： WO2015171801 JP 2015-11-12
- 主分类号： C23C4/11
- IPC分类号： C23C4/11 ; C23C4/134 ; C23C4/18 ; H01L21/3065
摘要：
超高密度かつ超平滑なセラミックスコーティングを製造するための方法が、本明細書中に開示される。本方法は、プラズマ溶射装置の中にセラミックス粒子のスラリーを供給する工程を含む。プラズマ溶射装置は、基板に向かう粒子の流れを生成し、接触した際に、基板上にセラミックスコーティングを形成する。
摘要（英）：
The method for producing ultra-high density and ultra-smooth ceramic coating is disclosed herein. The method includes providing a slurry of ceramic particles in the spray apparatus. Spray coating apparatus generates a stream of particles towards the substrate, upon contact, forms a ceramic coating on a substrate.
公开/授权文献:
- JP6820103B2 耐プラズマ性セラミックスコーティングのスラリープラズマ溶射 公开/授权日：2021-01-27