基本信息:
- 专利标题： 基板上にパターン化された構造を形成するための方法およびシステム
- 专利标题（英）：Method and system for forming a patterned structure on a substrate
- 专利标题（中）：方法和系统，用于在衬底上形成图案化结构
- 申请号：JP2016527224 申请日：2014-10-29
- 公开(公告)号：JP2017501431A 公开(公告)日：2017-01-12
- 发明人： ロブ・ヤコブ・ヘンドリックス , ガリ・アルティノフ , エドガー・コンスタント・ピーテル・スミッツ
- 申请人： ネーデルランドセ・オルガニサティ・フォール・トゥーヘパスト−ナトゥールウェテンスハッペライク・オンデルズーク・テーエヌオー
- 申请人地址： オランダ・2595DA・スフラーフェンハーヘ・アンナ・ファン・ビューレンプラン・1
- 专利权人： ネーデルランドセ・オルガニサティ・フォール・トゥーヘパスト−ナトゥールウェテンスハッペライク・オンデルズーク・テーエヌオー
- 当前专利权人： ネーデルランドセ・オルガニサティ・フォール・トゥーヘパスト−ナトゥールウェテンスハッペライク・オンデルズーク・テーエヌオー
- 当前专利权人地址： オランダ・2595DA・スフラーフェンハーヘ・アンナ・ファン・ビューレンプラン・1
- 代理人： 村山 靖彦; 実広 信哉; 阿部 達彦
- 优先权： EP13190956.6 2013-10-30 EP13197502.1 2013-12-16
- 国际申请： NL2014050748 JP 2014-10-29
- 国际公布： WO2015065182 JP 2015-05-07
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H05K3/10
The present disclosure relates to a method and system for providing an acceptor substrate (4) patterned structure on a (3p). The method includes providing a donor substrate (10) disposed between the light source (5) and the acceptor substrate (4). Mask (7) is disposed between the light source (5) and the donor substrate (10). Mask (7) is provided with a mask pattern (7p) to pattern the light (6). Patterned light impinges on the donor substrate (10) (6p) a donor material (3) is peeled from the donor substrate (10), transferred to the acceptor substrate (4), patterned structures (3p) a is formed thereon. Patterned light (6p), in order to peel the donor material (3) in the form of a donor substrate (10) separate uniformly sized droplets from (3d), impinge simultaneously on the donor substrate (10) is divided into a plurality of discrete uniform size of the beam (6b).
公开/授权文献:
- JP6549571B2 基板上にパターン化された構造を形成するための方法およびシステム 公开/授权日：2019-07-24