基本信息:
- 专利标题： 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物
- 专利标题（英）：Radiation-sensitive resin composition, method for forming resist pattern, radiation-sensitive acid generator and compound
- 申请号：JP2016042877 申请日：2016-03-04
- 公开(公告)号：JP2017156727A 公开(公告)日：2017-09-07
- 发明人： 生井 準人
- 申请人： JSR株式会社
- 申请人地址： 東京都港区東新橋一丁目9番2号
- 专利权人： JSR株式会社
- 当前专利权人： JSR株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区東新橋一丁目9番2号
- 代理人： 天野 一規; 池田 義典; 小川 博生; 石田 耕治; 各務 幸樹; 藤中 賢一
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/038 ; C07C309/25 ; C07C309/26 ; C07C309/27 ; C07C309/19 ; C07C381/12 ; C09K3/00 ; C08K5/42 ; C08L101/02 ; G03F7/20 ; C07D493/08 ; C07D307/88 ; C07D309/30 ; G03F7/004
摘要：
【課題】LWR性能、EL性能等に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。 【解決手段】酸解離性基を含む第1構造単位を有する重合体と、式(1)で表される化合物及び式(2)で表される化合物から選ばれるスルホン酸塩と、溶媒とを含有する感放射線性樹脂組成物。下記式中、R 4 及びR 8 は、置換又は非置換の環員数3〜20の脂環式炭化水素基又は環員数3〜20の脂肪族複素環基を表す。X + は、感放射線性オニウムカチオンである。 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6668831B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物 公开/授权日：2020-03-18