基本信息:
- 专利标题： 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法
- 专利标题（英）：Photoresist composition, coated substrate including photoresist composition, and method of forming electronic device
- 申请号：JP2016244687 申请日：2016-12-16
- 公开(公告)号：JP2017129851A 公开(公告)日：2017-07-27
- 发明人： イマッド・アカッド , ウィリアム・ウィリアムズ・サード , ジェームズ・エフ・キャメロン
- 申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー , Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 申请人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 代理人： 特許業務法人センダ国際特許事務所
- 优先权： US62/273,523 2015-12-31
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/20 ; C07C255/31 ; C07C381/12 ; C07C255/24 ; C07C255/34 ; C07C25/18 ; C08F220/18 ; G03F7/004
摘要：
【課題】サブミクロン寸法の高解像の画像を提供する。 【解決手段】酸感受性ポリマー、及び式(I)を有する光酸発生剤化合物を含む光レジスト組成物。 式中、M + は有機カチオン、EWGは電子吸引基、Yは単結合または結合基、Rは水素、特定構造のアルキル基、アルケニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルキル基、ヘテロシクロアルケニル基、アリール基、またはヘテロアリール基を表す。 【選択図】なし
公开/授权文献:
- JP6553585B2 光レジスト組成物、光レジスト組成物を含むコーティングされた基材、及び電子装置を形成する方法 公开/授权日：2019-07-31