基本信息:
- 专利标题： 太陽電池用パッシベーション膜の製造方法
- 专利标题（英）：Method of manufacturing a passivation film for a solar cell
- 专利标题（中）：制造的钝化膜的太阳能电池的方法
- 申请号：JP2015166730 申请日：2015-08-26
- 公开(公告)号：JP2017045834A 公开(公告)日：2017-03-02
- 发明人： 児玉 俊輔 , 野尻 剛 , 田中 徹 , 早坂 剛
- 申请人： 日立化成株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号
- 专利权人： 日立化成株式会社
- 当前专利权人： 日立化成株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区丸の内一丁目9番2号
- 主分类号： H01L31/068
- IPC分类号： H01L31/068 ; H01L31/0216
摘要：
【課題】パッシベーション層形成用組成物をスクリーン印刷法等で形成する際に、凹凸のある基板に対しても凹凸による空隙を抑制した太陽電池用パッシベーション膜の製造方法を提供する。 【解決手段】一般式(I)で表される化合物を含むパッシベーション形成用組成物を真空度760Torr未満(101.325kPa)で塗布する工程を有する太陽電池用パッシベーション膜の製造方法。 [一般式(I)中、Mは、Al、Nb、Ta、VO、Y及びHfからなる群より選択される少なくとも1種を表す。R 1 はそれぞれ独立してアルキル基又はアリール基を表す。mは1〜5の整数を表す。] 【選択図】なし
摘要（中）：
当通过丝网印刷方法或类似方法形成的钝化层形成用组合物，还提供了用于一种抑制空隙由于具有凹凸基板上的凹凸的太阳能电池制造的钝化膜的方法。 的钝化膜的包括施加的形成钝化的组合物，包括以下真空760托（101.325千帕）由式（I）表示的化合物的步骤的太阳能电池用通式制造方法。 在通式（I）中，M表示至少一种的Al，铌，钽，VO，选自Y和Hf组成的组中选择。 R1表示烷基或独立地为芳基。 m表示1〜5的整数。 ]系统技术领域
摘要（英）：
Disclosed passivation layer forming composition when formed by screen printing method or the like, also provides a method for producing a passivation film for a solar cell which suppresses voids due to the unevenness on the substrate having unevenness.
A general formula manufacturing method of a passivation film for a solar cell comprising the step of applying a passivation-forming composition comprising a compound represented by (I) is less than the degree of vacuum 760Torr (101.325kPa).
In the General formula (I), M represents at least one Al, Nb, Ta, VO, is selected from the group consisting of Y and Hf. R
1 represents an alkyl group or an aryl group independently of each other. m is an integer of 1 to 5. ]
.BACKGROUND
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L31/00 | 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或设备；其零部件 |
| --------H01L31/02 | .零部件 |
| ----------H01L31/042 | ..包括光电池板或阵列，如太阳电池板或阵列 |
| ------------H01L31/068 | ...只是PN单质结型势垒的 |