基本信息:
- 专利标题： 光酸発生剤
- 专利标题（英）：Photo-acid-generating agent
- 专利标题（中）：光酸产生剂
- 申请号：JP2016120782 申请日：2016-06-17
- 公开(公告)号：JP2017002047A 公开(公告)日：2017-01-05
- 发明人： ジェームズ・ダブリュー.サッカレー , スザンヌ・エム.コーリー , ジェームズ・エフ.キャメロン , ポール・ジェイ.ラボーメ , オーウェンディ・オンゲイ , ビップル・ジェイン , アーマド・イー.マッドクル
- 申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー , Rohm and Haas Electronic Materials LLC , ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
- 申请人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC,ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
- 当前专利权人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー,Rohm and Haas Electronic Materials LLC,ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
- 当前专利权人地址： アメリカ合衆国、マサチューセッツ 01752、マールボロ、フォレスト・ストリート 455
- 代理人： 特許業務法人センダ国際特許事務所
- 优先权： US61/418,196 2010-11-30
- 主分类号： C07C25/00
- IPC分类号： C07C25/00 ; C07C43/29 ; C07C309/04 ; C07C309/28 ; C08F220/12 ; C08F220/26 ; C08F212/14 ; C07C381/12
摘要：
【課題】マイクロエレクトロニクス用途の為の化学増幅型フォトレジストにおいて、光学素子を覆い、腐蝕する様な分解生成物を生じない光酸発生剤化合物の提供。 【解決手段】式(V)で表わされる構造のカチオンであり、スルホン酸又はスルホンアミド等のアニオンと対を形成する化合物を有する光酸発生剤化合物。 (XはS又はI;Ar1及びAr2の一方はC10−30縮合多環式アリール基、他方は単結合多環式アリール基) 【選択図】なし
摘要（中）：
公开了一种用于微电子应用的化学放大光致抗蚀剂，覆盖光学元件，它提供了不造成腐蚀到这样的降解产物的光致酸产生剂化合物。 A是由式（V）表示的结构，具有形成阴离子和一对如磺酸或磺酰胺的化合物光酸产生剂化合物的阳离子。 （X是S或I;氩@ 1和一个是C10-30稠合多环芳基Ar @ 2，另一个是单键多环芳基）装置技术领域
摘要（英）：
To provide a chemically amplified photoresist for microelectronic applications, covering the optical element, provides a photoacid generator compound that does not cause corrosion to such degradation products.
A is a cation having a structure represented by formula (V), photoacid generator compound having a compound which forms an anion and pair such as a sulfonic acid or sulfonamide.
(X is S or the I; Ar1 and one is C10-30 condensed polycyclic aryl group Ar2, other is a single bond polycyclic aryl group)
.BACKGROUND