专利号JP2015552135 | 液体処理装置

专利标题：液体処理装置
专利标题（英）：Liquid processing apparatus
专利标题（中）：液体处理装置
申请号：JP2015552135 申请日：2013-01-08
公开(公告)号：JP2016502931A 公开(公告)日：2016-02-01
发明人：ピヴィヴァロフオレクサンダー , ピヴィヴァロフオレクサンダー
申请人：アスタソリューションズリミテッドAsta Solutions Limited , アスタソリューションズリミテッドAsta Solutions Limited , オレクサンダーピヴィヴァロフOleksander PIVIVAROV , オレクサンダーピヴィヴァロフOleksander PIVIVAROV
申请人地址：英国、NP16 5BA、モンマスシャー、チェプストウ、ニューポートロード 5、ウスクリーハウス
专利权人：アスタソリューションズリミテッドAsta Solutions Limited,アスタソリューションズリミテッドAsta Solutions Limited,オレクサンダーピヴィヴァロフOleksander PIVIVAROV,オレクサンダーピヴィヴァロフOleksander PIVIVAROV
当前专利权人：アスタソリューションズリミテッドＡｓｔａＳｏｌｕｔｉｏｎｓＬｉｍｉｔｅｄ,アスタソリューションズリミテッドＡｓｔａＳｏｌｕｔｉｏｎｓＬｉｍｉｔｅｄ,オレクサンダーピヴィヴァロフＯｌｅｋｓａｎｄｅｒＰＩＶＩＶＡＲＯＶ,オレクサンダーピヴィヴァロフＯｌｅｋｓａｎｄｅｒＰＩＶＩＶＡＲＯＶ
当前专利权人地址：英国、NP16 5BA、モンマスシャー、チェプストウ、ニューポートロード 5、ウスクリーハウス
代理人：菊池新一; 菊池徹; 松本英俊
优先权： GB2013050021 2013-01-08
国际申请： GB2013050021 JP 2013-01-08
国际公布： WO2014108659 JP 2014-07-17
主分类号： C02F1/48
IPC分类号： C02F1/48

摘要：

液体処理装置は、液体を受け取って流す液体の流路26とプラズマ発生手段とを含み、プラズマ発生手段は流路26を流れる液体の表面と接触するように流路上方の気相中にプラズマフィールドを生成するように構成され、プラズマフィールフドは液体に作用してその不純物が固形の不溶性物質を形成し、この物質は、公知の濾過方法によって液体から除去される。プラズマ発生手段は陽極を形成する少なくとも1つの電極40とこの電極40から間隔をあけて配置された少なくとも1つの陰極24とを含み、電極40は、液体が流路26を流れる際、電極40が気相内で液体の表面の上方にあるように配置され、少なくとも1つの陰極24は、液体が流路内を流れる際に、プラズマフィールドが気相内に発生して液体の表面まで延びその表面に接触するように、液体の表面の下方に少なくとも部分的に沈むように配置されている。【選択図】図1

摘要（中）：

液体处理装置包括：流路26和液体的流动接收液体的等离子体生成装置，等离子体场在流路方向，使得等离子体生成装置是在与流过通道26中的液体的表面接触的气相被配置为产生等离子场煤斗其杂质，以形成不溶性材料通过作用于液体中的固体，将材料通过已知的过滤方法将液体除去。等离子体产生装置包括至少一个阴极24，其隔开的电极40上的电极40隔开的至少一个，以形成阳极，电极40，当液体流过通道26，电极40 被布置成使得所述气相中的液体的表面上方，至少一个阴极24，流过在液体流动路径的情况下，在气相中产生其表面等离子体场延伸到液体的表面以接触被布置为水槽的液体的表面至少部分的下方。点域1

摘要（英）：

Liquid treatment apparatus includes a flow path 26 and the plasma generating means of the liquid flowing to receive a liquid, plasma field in the gas phase in the flow channel direction as the plasma generating means is in contact with the surface of the liquid flowing through the channel 26 is configured to generate a plasma field Hod its impurities to form insoluble materials solid by acting on the liquid, the material is removed from the liquid by known filtration methods. Plasma generating means and at least one cathode 24 which is spaced at least one of the electrodes 40 apart from the electrode 40 to form the anode, the electrode 40 is, when the liquid flows through the passage 26, the electrodes 40 are arranged such that the gas phase above the surface of the liquid, at least one cathode 24, when flowing through the flow path within the liquid, its surface plasma field is generated in the gas phase extending to the surface of the liquid to contact the are arranged so as sink at least partially beneath the surface of the liquid.
.FIELD 1

Espacenet

C	化学；冶金
--C02	水、废水、污水或污泥的处理
----C02F	水、废水、污水或污泥的处理
------C02F1/00	水、废水或污水的处理C02F3/00至C02F9/00优先
--------C02F1/48	.用磁场或电场的

发明专利 JP2016502931A 液体処理装置 审中-公开

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