基本信息:
- 专利标题： 新規なジカルボン酸無水物及びその製造方法
- 专利标题（英）：The novel dicarboxylic acid anhydride and a production method thereof
- 专利标题（中）：新颖二羧酸酐以及它们的制备方法
- 申请号：JP2016118082 申请日：2016-06-14
- 公开(公告)号：JP2016210784A 公开(公告)日：2016-12-15
- 发明人： 鈴木 秀雄 , 野田 尚宏
- 申请人： 日産化学工業株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区神田錦町3丁目7番地1
- 专利权人： 日産化学工業株式会社
- 当前专利权人： 日産化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区神田錦町3丁目7番地1
- 代理人： 泉名 謙治; 小川 利春
- 优先权： JP2011101814 2011-04-28
- 主分类号： C07D493/22
- IPC分类号： C07D493/22 ; G02F1/1337 ; C07D493/18
摘要：
【課題】ラビン耐性が良好で、プレチル角も付与でき液晶配向処理剤用のポリイミド前駆体若しくはポリイミドの末端を修飾するのに好適に使用される新規な側鎖置換脂環式エポキシジカルボン酸無水物及びその製造方法の提供。 【解決手段】式[1]、式[2]、又は式[3]で表される化合物。 (RはC1〜20のアルキル基、C1〜20のハロアルキル基、又はシアノ基を含有したC1〜20のアルキル基) 【選択図】なし
摘要（中）：
甲拉宾性好，新颖侧链取代的脂环族环氧树脂的二羧酸酐，优选使用以修改聚酰亚胺前体或聚酰亚胺的液晶定向处理剂的端部可被授予的预倾斜角 并提供其制造方法。 公式[1]，通式[2]，或者由下式表示的化合物[3]。 （R为烷基C 1-20的，卤代烷基C 1-20，或氰基C 1-20烷基含有：a）装置技术领域
摘要（英）：
[PROBLEMS] Rabin resistance is good, the novel side-chain-substituted cycloaliphatic epoxy dicarboxylic acid anhydride is preferably used to modify the ends of the polyimide precursor or polyimide for liquid crystal alignment treating agent can have an Purechiru angle and the provision of a method of manufacturing the same.
A formula [1], the formula [2], or a compound represented by the formula [3].
(R is an alkyl group of C1-20, haloalkyl group of C1-20, or C1-20 alkyl group containing a cyano group)
.BACKGROUND
公开/授权文献:
- JP6152914B2 新規なジカルボン酸無水物及びその製造方法 公开/授权日：2017-06-28
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07D | 杂环化合物 |
| ------C07D493/00 | 杂环化合物，在稠环系中含有氧原子作为仅有的杂环原子 |
| --------C07D493/22 | .稠合环系中含有4个或更多个杂环 |