基本信息:
- 专利标题： 製膜装置
- 专利标题（英）：Film deposition apparatus
- 专利标题（中）：胶片沉积装置
- 申请号：JP2015070075 申请日：2015-03-30
- 公开(公告)号：JP2016191081A 公开(公告)日：2016-11-10
- 发明人： 大串 孝宏
- 申请人： 株式会社カネカ
- 申请人地址： 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号
- 专利权人： 株式会社カネカ
- 当前专利权人： 株式会社カネカ
- 当前专利权人地址： 大阪府大阪市北区中之島二丁目3番18号
- 代理人： 藤田 隆
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; C23C16/50 ; C23C14/54 ; C23C14/52 ; C23C14/50 ; H01L21/677 ; H01L31/18 ; H02S50/15 ; H05B33/10 ; H01L51/50 ; C23C16/52
摘要：
【課題】本発明は、基材保持装置間で生じる個体差を調整し、品質の高い薄膜を量産することが可能な製膜装置を提供する。 【解決手段】薄膜を製膜する製膜室と、複数の基材保持装置を備え、基材保持装置は、基材を所定の姿勢で保持しつつ製膜室に出入りするものであり、薄膜の状態を検知する薄膜検知手段を有し、一の基材保持装置によって一の基材を製膜室内に搬送して製膜し、薄膜検知手段によって製膜された一の基材の薄膜の状態を検知し、異常があったことを条件として、一の基材保持装置によって後に搬送される他の基材への製膜条件を変更する構成とする。 【選択図】図16
摘要（中）：
要解决的问题：提供一种能够调节基板保持装置之间的个体差异并且能够大量生产高质量薄膜的成膜装置。解决方案：一种成膜装置，包括成膜室，其中薄膜 和多个基板保持装置。 基板保持装置在将基板保持在预定位置的同时进入和离开成膜室，并且具有检查薄膜条件的薄膜检查装置。 每个基板保持装置将一个基板输送到成膜室中，产生膜沉积并检查沉积在基板上的薄膜的条件。 在异常检查结果的情况下，将改变的沉积条件施加到稍后由相同的基板保持装置输送的另一个基板。选择的图：图16
公开/授权文献:
- JP6416682B2 製膜装置 公开/授权日：2018-10-31