基本信息:
- 专利标题： 塩、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法
- 专利标题（英）：Salt, acid generator, resist composition, and production method of resist pattern
- 专利标题（中）：盐，酸发生器，耐蚀组合物和耐蚀图案的生产方法
- 申请号：JP2016001964 申请日：2016-01-07
- 公开(公告)号：JP2016130240A 公开(公告)日：2016-07-21
- 发明人： 坂本 宏 , 市川 幸司
- 申请人： 住友化学株式会社
- 申请人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人： 住友化学株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都中央区新川二丁目27番1号
- 代理人： 新樹グローバル・アイピー特許業務法人
- 优先权： JP2015002027 2015-01-08
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039 ; G03F7/20 ; C07D307/00 ; C09K3/00 ; C07D327/06
摘要：
【課題】良好なラインエッジラフネスでレジストパターンを製造することができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】式(I)で表される塩、この塩を含む酸発生剤及びこの酸発生剤を含有するレジスト組成物。 [式(I)中、R 1 は、炭素数1〜12のアルキル基を表し、該アルキル基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。mは、0〜3の整数を表し、mが2以上のとき、複数のR 1 は同一でも異なってもよい。Q 1 及びQ 2 は、それぞれ独立に、フッ素原子又は炭素数1〜6のペルフルオロアルキル基を表す。A 1 は、炭素数4〜24のラクトン環を有する基を表す。R 2 は、酸不安定基を表す。] 【選択図】なし
摘要（中）：
要解决的问题：提供可以产生具有良好线边缘粗糙度的抗蚀剂图案的盐，酸产生剂和抗蚀剂组合物。溶液：盐由式（I）表示。 酸产生剂含有盐，抗蚀剂组合物含有酸发生剂。 式（I）中，R表示碳原子数为1〜12的烷基，其中烷基中所含的亚甲基可被氧原子或羰基取代; m表示0〜3的整数，当m为2以上时，多个R may可以相同也可以不同， Qand Qeach独立地表示氟原子或具有1至6个碳原子的全氟烷基; 表示具有4至24个碳原子的内酯环的基团; 并表示酸不稳定组。选择图：无
公开/授权文献:
- JP6845611B2 レジスト組成物及びレジストパターンの製造方法 公开/授权日：2021-03-17