基本信息:
- 专利标题： 露光装置および露光方法
- 专利标题（英）：Exposure device and exposure method
- 专利标题（中）：曝光装置和曝光方法
- 申请号：JP2014260001 申请日：2014-12-24
- 公开(公告)号：JP2016122676A 公开(公告)日：2016-07-07
- 发明人： 山田 章夫 , 菅谷 慎二 , 黒川 正樹 , 瀬山 雅裕
- 申请人： 株式会社アドバンテスト
- 申请人地址： 東京都練馬区旭町1丁目32番1号
- 专利权人： 株式会社アドバンテスト
- 当前专利权人： 株式会社アドバンテスト
- 当前专利权人地址： 東京都練馬区旭町1丁目32番1号
- 代理人： 龍華国際特許業務法人
- 主分类号： H01J37/305
- IPC分类号： H01J37/305 ; H01L21/027
摘要：
【課題】光露光技術および荷電粒子ビーム露光技術を組み合わせて、複雑で微細なパターンを形成する。 【解決手段】試料上のラインパターンに応じた位置に荷電粒子ビームを照射する露光装置であって、ラインパターンの幅方向に照射位置が異なる複数の荷電粒子ビームを発生するビーム発生部と、複数の荷電粒子ビームの照射位置を、ラインパターンの長手方向に沿って走査させる走査制御部と、ラインパターン上の長手方向の指定された照射位置において、複数の荷電粒子ビームのうち試料に照射すべき少なくとも1つの荷電粒子ビームを選択する選択部と、選択された少なくとも1つの荷電粒子ビームを試料へと照射する制御をする照射制御部と、を備える露光装置および露光方法を提供する。 【選択図】図1
摘要（中）：
要解决的问题：提供通过组合光学曝光技术和带电粒子束曝光技术形成复杂精细图案的曝光装置和方法。解决方案：将带电粒子束施加到对应于线图案的位置的曝光装置 提供样品，并提供曝光方法。 曝光装置具有用于在线条图案的宽度方向上产生用于不同照射位置的多个带电粒子束的束发生器，用于沿着线条图案的纵向扫描多个带电粒子束的照射位置的扫描控制器， 选择器，用于从所述线图案上的纵向方向上的特定照射位置选择要从所述多个带电粒子束施加到所述样本的至少一个带电粒子束;以及照射控制器，用于控制所述样品与所述至少一个 选择带电粒子束。选择图：图1
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01J | 放电管或放电灯 |
| ------H01J37/00 | 有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管,如为了对其检验或加工的 |
| --------H01J37/02 | .零部件 |
| ----------H01J37/305 | ..用于浇铸、熔化、蒸发或浸蚀的 |