基本信息:
- 专利标题： 担体空隙埋没型ＳＣＲ触媒構造体
- 专利标题（英）：Carrier void buried type scr catalyst structure
- 专利标题（中）：载体的空隙埋入型SCR催化剂结构
- 申请号：JP2015517173 申请日：2013-06-07
- 公开(公告)号：JP2015519199A 公开(公告)日：2015-07-09
- 发明人： ヒョンシク・ハン , ウンソク・キム , ヌンギュン・アン
- 申请人： ヒソン カタリスツ コーポレイション , ヒソン カタリスツ コーポレイション
- 申请人地址： 大韓民国,429−848,キョンギ−ド,シフン−シ,ソマンゴンウォン−ロ,91,(チョンワン−ドン,ヒソン カタリスツ コーポレイション)
- 专利权人： ヒソン カタリスツ コーポレイション,ヒソン カタリスツ コーポレイション
- 当前专利权人： ヒソン カタリスツ コーポレイション,ヒソン カタリスツ コーポレイション
- 当前专利权人地址： 大韓民国,429−848,キョンギ−ド,シフン−シ,ソマンゴンウォン−ロ,91,(チョンワン−ドン,ヒソン カタリスツ コーポレイション)
- 代理人： 平野 泰弘
- 优先权： KR10-2012-0062412 2012-06-12
- 国际申请： KR2013005002 JP 2013-06-07
- 国际公布： WO2013187632 JP 2013-12-19
- 主分类号： B01J37/02
- IPC分类号： B01J37/02 ; B01D53/86 ; B01D53/94 ; B01J23/22 ; B01J35/04
摘要：
本発明は、硫黄の含有量が高い(硫黄高含有量)排気ガス処理において適用される従来の押出し型またはコーティング型SCR触媒の問題を解決するために提供されるもので、空隙沈積型または埋没型SCR触媒構造体に関するものであり、触媒活性物質が担体の内部に沈積し、担体の内壁には実質的に触媒活性物質が存在していない沈積型SCR触媒構造体に関するものである。
摘要（中）：
本发明的目的是为了解决常规的挤出型或涂布型SCR催化剂硫的含量的问题将被提供在高（硫含量高）被施加废气处理，空隙沉积型或埋 键入SCR催化剂结构体Nikansuru东西在那里，催化活性材料蛾载体2个存款内部安装，并且载体卢内壁第二叶片真正的目标2的催化活性材料蛾存在的手没有沉积在型SCR催化剂结构体Nikansuru东西在那里。
摘要（英）：
The present invention, which is provided to solve the conventional extrusion-type or a coating type SCR catalyst problems content of sulfur is applied at high (sulfur-rich content) exhaust gas treatment, voids deposition type or buried relates to the type SCR catalyst structure, the catalytically active material is deposited on the interior of the carrier, on the inner wall of the carrier is related deposition type SCR catalyst structure that does not exist substantially catalytically active material.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B01 | 一般的物理或化学的方法或装置 |
| ----B01J | 化学或物理方法，例如，催化作用、胶体化学；其有关设备 |
| ------B01J37/00 | 制备催化剂之一般方法；催化剂活化的一般方法 |
| --------B01J37/02 | .浸渍，涂层或沉淀 |