基本信息:
- 专利标题： プラズマ技術を使用したアセチレンの製造方法及び装置
- 专利标题（英）：Method and apparatus for producing acetylene by using plasma technology
- 专利标题（中）：用于使用等离子技术生产乙炔的方法和装置
- 申请号：JP2015503782 申请日：2013-04-03
- 公开(公告)号：JP2015516958A 公开(公告)日：2015-06-18
- 发明人： ラルフ シュピッツル , ラルフ シュピッツル
- 申请人： シュピッツル ラルフSPITZL,Ralf , シュピッツル ラルフSPITZL,Ralf
- 申请人地址： ドイツ連邦共和国 53842 トロイスドルフ ラングバウルシュトラーセ 10
- 专利权人： シュピッツル ラルフSPITZL,Ralf,シュピッツル ラルフSPITZL,Ralf
- 当前专利权人： シュピッツル ラルフＳＰＩＴＺＬ，Ｒａｌｆ,シュピッツル ラルフＳＰＩＴＺＬ，Ｒａｌｆ
- 当前专利权人地址： ドイツ連邦共和国 53842 トロイスドルフ ラングバウルシュトラーセ 10
- 代理人： 福田 保夫; 赤塚 賢次
- 优先权： DE102012007230.9 2012-04-07
- 国际申请： EP2013000983 JP 2013-04-03
- 国际公布： WO2013149723 JP 2013-10-10
- 主分类号： C07C2/76
- IPC分类号： C07C2/76 ; C07C11/24
摘要：
プラズマ技術を使用したアセチレンの製造方法及び装置で、少なくとも1種の炭化水素を含む気体をプラズマ源の非熱プラズマに導入することを特徴とする。
摘要（中）：
在用于使用等离子体技术产生乙炔，和引入含有所述等离子体源的非热等离子体中的至少一种烃的气体的方法和装置。
摘要（英）：
In the manufacturing method and apparatus of acetylene using plasma technology, characterized by introducing a gas containing at least one hydrocarbon in the non thermal plasma in the plasma source.
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C2/00 | 从含碳原子数较少的烃制备烃 |
| --------C07C2/76 | .带有部分脱氢的烃的缩合 |