发明专利
JP2015148687A 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、フォトマスク、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、新規化合物、及び、新規化合物の製造方法
有权
基本信息:
- 专利标题： 感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、感活性光線性又は感放射線性膜を備えたマスクブランクス、フォトマスク、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、電子デバイス、新規化合物、及び、新規化合物の製造方法
- 专利标题（英）：Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, mask blank including actinic ray-sensitive or radiation-sensitive film, photomask, pattern forming method, method for manufacturing electronic device, electronic device, novel compound, and production method of novel compound
- 专利标题（中）：丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物，包括紫外线敏感或辐射敏感膜的阴离子敏感性或辐射敏感性膜，光敏剂，图案形成方法，制造电子器件的方法，电子器件，新颖 化合物和新化合物的生产方法
- 申请号：JP2014020781 申请日：2014-02-05
- 公开(公告)号：JP2015148687A 公开(公告)日：2015-08-20
- 发明人： 横川 夏海 , 望月 英宏 , 高橋 孝太郎 , 山口 修平
- 申请人： 富士フイルム株式会社
- 申请人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人： 富士フイルム株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都港区西麻布2丁目26番30号
- 代理人： 蔵田 昌俊; 福原 淑弘; 野河 信久; 峰 隆司; 河野 直樹; 砂川 克; 井関 守三; 井上 正; 佐藤 立志; 岡田 貴志; 堀内 美保子
- 主分类号： G03F7/038
- IPC分类号： G03F7/038 ; G03F1/20 ; G03F1/22 ; C07C41/16 ; C07C43/13 ; G03F7/004
摘要：
【課題】超微細パターン(例えば、線幅50nm以下)の形成において、PEB温度に依存したパターンの線幅変動を抑制することができ、且つ、保存安定性にも優れる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、それを用いた感活性光線性又は感放射線性膜、該膜を備えたマスクブランクス、フォトマスク、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、及び電子デバイスの提供。 【解決手段】アルカリ可溶性樹脂、及び、架橋剤を含み、前記架橋剤が下記一般式(I)で表されることを特徴とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。(式中、R 1 及びR 6 は、各々独立に、水素原子、又は炭素数5以下の炭化水素基を表す。R 2 及びR 5 は、各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、又はアシル基を表す。R 3 及びR 4 は、各々独立に、水素原子、又は炭素数2以上の有機基を表す。R 3 及びR 4 は、互いに結合して環を形成してもよい。) 【選択図】なし
摘要（中）：
要解决的问题：提供一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其可以抑制在形成超细纹图案的过程中根据PEB（曝光后烘烤）温度的图案的线宽的波动（例如， 线宽度为50nm以下的图案），并且具有优异的储存稳定性，并且使用该树脂组合物提供光化学敏感或辐射敏感的膜，具有该膜的掩模坯料，光掩模，图案 成形方法，电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：光化学射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含碱溶性树脂和交联剂; 交联剂由下述通式（I）表示。 在该式中，Rand Reach独立地表示氢原子或碳原子数为5以下的烃基; Rand Reach独立地表示烷基，环烷基，芳基或酰基; 和Rand Reach独立地表示氢原子或具有2个或更多个碳原子的有机基团，并且Rand R may键合形成环。