基本信息:
- 专利标题： イミノスチルベンポリマー及びそれを含むレジスト下層膜形成組成物
- 专利标题（英）：Iminostilbene polymer and composition for forming resist underlay film containing the same
- 专利标题（中）：用于形成含有其的底漆膜的组成聚合物和组合物
- 申请号：JP2013269766 申请日：2013-12-26
- 公开(公告)号：JP2015124292A 公开(公告)日：2015-07-06
- 发明人： 橋本 圭祐 , 染谷 安信 , 新城 徹也 , 柄澤 涼
- 申请人： 日産化学工業株式会社
- 申请人地址： 東京都千代田区神田錦町3丁目7番地1
- 专利权人： 日産化学工業株式会社
- 当前专利权人： 日産化学工業株式会社
- 当前专利权人地址： 東京都千代田区神田錦町3丁目7番地1
- 主分类号： G03F7/11
- IPC分类号： G03F7/11 ; G03F7/26 ; H01L21/027 ; C08G61/00
摘要：
【課題】イミノスチルベン重合体、イミノスチルベンとビニル化合物との共重合体、及びそれらポリマーを用いたレジスト下層膜形成組成物を提供する。 【解決手段】式(1)で示されるイミノスチルベン構造を単位構造として含むポリマー。 (R 1 及びR 2 はそれぞれ水素原子、ハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、水酸基、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜40のアリール基、又はエーテル結合、ケトン結合、若しくはエステル結合を含んでいても良いそれらの組み合わせ、R 3 は水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数2〜10のアルケニル基、炭素数6〜40のアリール基、又はエーテル結合、ケトン結合、若しくはエステル結合を含んでいても良いそれらの組み合わせ、n1は1〜3の整数、n2は1〜4の整数) 【選択図】なし
摘要（中）：
要解决的问题：提供亚氨基芪烯聚合物，亚氨基芪和乙烯基化合物的共聚物，以及使用该聚合物形成抗蚀剂底层膜的组合物。溶液：聚合物包括由式（1）表示的亚氨基茋结构，为 单位结构。 式（1）中，Rand Reach表示氢原子，卤素基，硝基，氨基，羟基，碳原子数1〜10的烷基，碳原子数2〜10的烯基，碳原子数为6〜40的芳基 原子或这些基团的组合，其可以包括醚键，酮键或酯键; R表示氢原子，碳原子数为1〜10的烷基，碳原子数为2〜10的烯基，碳原子数为6〜40的芳基，或者可以包括醚键，酮键或 酯键; n1表示1〜3的整数， n2表示1〜4的整数。
公开/授权文献:
- JP6338048B2 イミノスチルベンポリマー及びそれを含むレジスト下層膜形成組成物 公开/授权日：2018-06-06