基本信息:
- 专利标题： Darkfield inspection system comprising a ring-shaped irradiation
- 申请号：JP2012521696 申请日：2010-07-16
- 公开(公告)号：JP2012533756A 公开(公告)日：2012-12-27
- 发明人： チャオ・グオヘン , バエズ−イラバニ・メヘディ , ヤング・スコット , バスカー・クリス
- 申请人： ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
- 专利权人： ケーエルエー−テンカー・コーポレーションKla−Tencor Corporation
- 当前专利权人： ケーエルエー−テンカー・コーポレーションＫｌａ−Ｔｅｎｃｏｒ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ
- 优先权： US22771309 2009-07-22
- 主分类号： G01N21/956
- IPC分类号： G01N21/956 ; H01L21/66
【選択図】図１Ａ
A sample surface darkfield inspection systems to minimize speckle noise by roughness of the for generating synthetic focusing radiation onto a wafer may include a plurality of beam shaping path. Each beam shaping path, it is possible to irradiate the wafer at a tilt angle. A plurality of beam shaping path can form a ring-shaped irradiation. The ring-shaped illumination, by reducing the influence of the speckle can improve the SNR. Objective lens is capable of capturing the scattered light from the wafer, the image sensor can receive the output of the objective lens. Since the irradiation of the wafer is performed at an inclination angle, it can have an objective lens is high NA, Thereby, the optical resolution of the image sensor, and the resulting signal level is improved.
.FIELD 1A
公开/授权文献:
- JP5639169B2 暗視野検査システムおよび暗視野検査システムを構成する方法 公开/授权日：2014-12-10
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N21/00 | 利用光学手段，即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料 |
| --------G01N21/01 | .便于进行光学测试的装置或仪器 |
| ----------G01N21/88 | ..测试瑕疵、缺陷或污点的存在 |
| ------------G01N21/95 | ...特征在于待测物品的材料或形状 |
| --------------G01N21/956 | ....检测物品表面上的图案 |