发明专利
JP2010113142A Positive photosensitive composition and method for forming electrically conductive pattern
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： Positive photosensitive composition and method for forming electrically conductive pattern
- 专利标题（中）：形成电导图案的正性感光性组合物和方法
- 申请号：JP2008285484 申请日：2008-11-06
- 公开(公告)号：JP2010113142A 公开(公告)日：2010-05-20
- 发明人： ASO TAKAHIRO , FUKUI KOJI , YAMAUCHI KENJI
- 申请人： Sekisui Chem Co Ltd , 積水化学工業株式会社
- 专利权人： Sekisui Chem Co Ltd,積水化学工業株式会社
- 当前专利权人： Sekisui Chem Co Ltd,積水化学工業株式会社
- 优先权： JP2008285484 2008-11-06
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; C08G65/34 ; G03F7/004 ; G03F7/42
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive photosensitive composition which, when used as a resist material, can be decomposed and removed at a low temperature and ensures a very small residual amount of undecomposed components, and a method for forming an electrically conductive pattern using the positive photosensitive composition. SOLUTION: The positive photosensitive composition contains a resin (A) having a noncyclic acetal structural unit of a specific structure and a photoacid generator (B), wherein the ratio of the number of carbon atoms to the number of oxygen atoms in the resin (A) having the noncyclic acetal structural unit of a specific structure is 2.3-6.0. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要（中）：
要解决的问题：提供一种正型感光性组合物，其在用作抗蚀剂材料时可以在低温下分解除去并确保非均匀的未分解组分的残留量，以及用于形成电 导电图案使用正光敏组合物。 正光敏组合物含有具有特定结构的非环缩醛结构单元的树脂（A）和光酸产生剂（B），其中碳原子数与氧原子数之比 具有特定结构的非环状缩醛结构单元的树脂（A）为2.3〜6.0。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT