基本信息:
- 专利标题： Lithographic equipment and method for manufacturing device
- 专利标题（中）：光刻设备和制造设备的方法
- 申请号：JP2007291422 申请日：2007-11-09
- 公开(公告)号：JP2008131041A 公开(公告)日：2008-06-05
- 发明人： ONVLEE JOHANNES , BIJVOET DIRK-JAN
- 申请人： Asml Netherlands Bv , エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
- 专利权人： Asml Netherlands Bv,エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
- 当前专利权人： Asml Netherlands Bv,エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ．
- 优先权： US60032506 2006-11-16
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; G03F7/20 ; H01L21/683
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent a patterning device from sliding to a support. SOLUTION: A lithographic equipment includes an illumination system configured to condition a radiation beam; a support constructed to support a patterning device, the patterning device being capable of imparting the radiation beam with a pattern in its cross-section to form a patterned radiation beam; a substrate table constructed to hold a substrate; and a projection system configured to project the patterned radiation beam onto a target portion of the substrate. An applicator, such as a humidifier is provided to provide molecules, such as water molecules, to clamp area of the patterning device. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要（中）：
要解决的问题：为了防止图案形成装置滑动到支撑件。 解决方案：光刻设备包括被配置为调节辐射束的照明系统; 构造成支撑图案形成装置的支撑件，所述图案形成装置能够在其横截面中赋予辐射束图案以形成图案化的辐射束; 构造成保持基板的基板台; 以及投影系统，被配置为将所述图案化的辐射束投影到所述基板的目标部分上。 提供诸如加湿器的施加器以提供诸如水分子的分子来夹持图案形成装置的区域。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT
公开/授权文献:
- JP4833953B2 Lithographic apparatus and device manufacturing method 公开/授权日：2011-12-07
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |