基本信息:
- 专利标题： Standard specimen for small dimension calibration
- 专利标题（中）：用于小尺寸校准的标准样本
- 申请号：JP2002079917 申请日：2002-03-22
- 公开(公告)号：JP2003279321A 公开(公告)日：2003-10-02
- 发明人： MATSUDA KOICHI , YAMADA MITSUHIKO , KUROSAWA KOICHI , NAGAKUBO KOHEI
- 申请人： Hitachi High-Technologies Corp , Hitachi Sci Syst Ltd , 株式会社日立サイエンスシステムズ , 株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 专利权人： Hitachi High-Technologies Corp,Hitachi Sci Syst Ltd,株式会社日立サイエンスシステムズ,株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 当前专利权人： Hitachi High-Technologies Corp,Hitachi Sci Syst Ltd,株式会社日立サイエンスシステムズ,株式会社日立ハイテクノロジーズ
- 优先权： JP2002079917 2002-03-22
- 主分类号： G01B11/02
- IPC分类号： G01B11/02
摘要：
PROBLEM TO BE SOLVED: To easily confirm forming method of pattern pitch with small uncertainty, a means for giving a standard value and secureness of traceability of specific pattern pitch.
SOLUTION: A square pattern is formed by using lithography method, a standard value is given with a length measurement SEM of which the pattern pitch is calibrated with a standard value and uncertainty is added. For confirming the chain of traceability of a specific pattern, discrimination mark or number was given to all pattern pitches, chips and wafers.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO
摘要（中）：
SOLUTION: A square pattern is formed by using lithography method, a standard value is given with a length measurement SEM of which the pattern pitch is calibrated with a standard value and uncertainty is added. For confirming the chain of traceability of a specific pattern, discrimination mark or number was given to all pattern pitches, chips and wafers.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO
要解决的问题：为了容易地确认具有小的不确定性的图案间距的形成方法，提供了具体图案间距的标准值和可追溯性的确保性的装置。 解决方案：通过使用平版印刷法形成方形图案，标准值用长度测量SEM给出，其中图案间距用标准值校准，并且添加不确定性。 为了确认特定图案的可追溯性链，对所有图案间距，芯片和晶片给出了辨别标记或数字。 版权所有（C）2004，JPO
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01B | 长度、厚度或类似线性尺寸的计量；角度的计量；面积的计量；不规则的表面或轮廓的计量 |
| ------G01B11/00 | 以采用光学方法为特征的计量设备 |
| --------G01B11/02 | .用于计量长度、宽度或厚度 |