
基本信息:
- 专利标题: PROCEDE DE LIMITATION DE LA DEFORMATION D'UNE PIECE D HORLOGERIE EN SILICIUM
- 专利标题(英):METHOD FOR LIMITING THE DEFORMATION OF A SILICON TIMEPIECE
- 申请号:EP23151601.4 申请日:2023-01-13
- 公开(公告)号:EP4212966A1 公开(公告)日:2023-07-19
- 发明人: MONTINARO, Enrica , TILLE, Nicolas
- 申请人: Richemont International S.A. , Sigatec SA
- 申请人地址: CH 1752 Villars-sur-Glâne 10, route des Biches; CH 1950 Sion Chemin Grély 2
- 代理机构: Novagraaf International SA
- 优先权: EP22151563 20220114
- 主分类号: G04B1/14
- IPC分类号: G04B1/14 ; G04B15/14 ; G04B17/06 ; G04B17/22 ; G04D3/00
摘要:
L'invention concerne un procédé de limitation de la déformation d'une pièce d'horlogerie en silicium ménagée dans une plaquette, au cours d'une oxydation thermique, caractérisé par le fait que l'oxydation thermique est effectuée sur une pièce d'horlogerie en silicium fortement dopé. L'invention concerne également une utilisation d'un wafer comprenant au moins une couche de silicium fortement dopé, pour limiter la déformation d'une pièce d'horlogerie ménagée dans ladite couche de silicium fortement dopé, au cours d'une oxydation thermique.