基本信息:
- 专利标题： METHOD, SEMICONDUCTOR STRUCTURE, AND VACUUM PROCESSING SYSTEM
- 申请号：EP21717136.2 申请日：2021-03-29
- 公开(公告)号：EP4128323A1 公开(公告)日：2023-02-08
- 发明人： LAUKKANEN, Pekka , JAHANSHAH RAD, Zahra , LEHTIÖ, Juha-Pekka , KUZMIN, Mikhail , PUNKKINEN, Marko , KOKKO, Kalevi
- 申请人： Turun yliopisto
- 申请人地址： FI 20014 Turun yliopisto Yliopistonmäki
- 代理机构： Papula Oy
- 优先权： FI20205316 20200330
- 国际公布： WO2021198559 20211007
- 主分类号： H01L21/02
- IPC分类号： H01L21/02
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |